2013年微纳光学制造行业现有技术水平与特点

中国产业研究报告网讯：

    微纳光学制造技术以LIGA 工艺为基础，主要经过光刻、电铸和压印三个主要工艺步骤。 

    （1）光刻 

    光刻是通过光刻胶涂布、激光图形化光刻、曝光、显影等一系列生产步骤将基版上的特定部分光刻胶除去，在基版表面留下微纳结构。光刻技术传递图形的尺寸限度缩小到亚微米级，已从常规光学技术发展到应用激光、电子束、离子束等新技术，成为一种精密的微细加工技术。 

    微纳光学制造采用光刻技术在原版上形成微纳尺寸的细微结构，即可展现出各类光学效果。 

    （2）电铸 

    电铸是利用金属的电解沉积原理来精确复制某些复杂或特殊形状工件的特种加工方法，主要用来精确复制微细、复杂和某些难于用其他方法加工的特殊形状模具及工件。以预先按所需形状制成的原模作为阴极，用电铸材料作为阳极，一同放入与阳极材料相同的金属盐溶液中，在电解作用下，原模表面逐渐沉积出金属电铸层，达到所需的厚度后从溶液中取出，将电铸层与原模分离，便获得与原模形状相对应的金属复制件。

    内容选自产业研究报告网发布的《2013-2017年中国光学材料市场运行分析及发展策略研究报告》 

    微纳光学制造技术采用电铸工艺将原版复制成工作版，即制作工业化生产所需的模具。 

    （3）压印 

    本行业采用微纳压印技术规模化生产微纳光学产品，将电铸制成的工作版安装到压印设备上，通过热压或冷压方式在塑料基膜表面压制形成微纳结构。微纳压印设备主要采用卷对卷压印技术，该技术提高了微纳光学膜的生产效率，降低了生产成本。