2013年我国微纳光学制造行业核心技术水平与发展趋势

中国产业研究报告网讯：

    微纳光学制造的核心是光刻技术，而体现一家公司技术水平高低的关键是光刻设备的研发与制造能力。光刻设备包括激光直写设备和干涉光刻设备两大类，广泛用于微纳光学制版等高技术领域。

    在光刻设备技术方面，目前面临的主要问题是：运行速度慢，仅在平面上实现了微纳光刻。由于设备制造上的困难，限制了向大幅面发展的速度。从行业发展趋势来看，大幅面、微尺寸、无接缝的光刻技术是未来行业发展的方向。

    在单光束激光直写设备研制方面，德国海德堡公司单光束直写设备分辨率大于1um，美国Anvik 公司投影式高速激光刻蚀设备分辨率为5-8um，这两款设备均为微纳光学制造行业的重要设备。国内企业多数还集中在普通激光加工领域，分辨率为30um。

    内容选自产业研究报告网发布的《2013-2017年中国各种光学薄膜市场运行分析及发展策略研究报告》

    在双光束干涉光刻设备的研制方面，美国ITW 公司的iScan 仅实现了低分辨率（100dpi，A4 幅面）激光图像原版高速制造。在国内，苏州苏大维格光电科技股份有限公司研制的HoloMakerIII（150mm*150mm）成为国内微纳光学制造业的关键设备；研制的宽幅紫外DPSSL 高速干涉与直写混合光刻设备，实现了65 寸大幅面下5080dpi 高分辨率微结构图形（400nm 线对）的快速（500mm/s）极限制造，运行效率比传统激光直写提高数十倍以上，是行业内较好的指标。